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光学玻璃清洗对象的主要区别

返回列表来源:  发布日期:2018-03-09 10:58:00   浏览:-

随着光学玻璃加工行业的日益发展,清洗工艺在其生产过程中是不可或缺的重要环节,贯穿于整个生产流程。光学玻璃基板通常需要通过:开料——CNC——清洗——抛光——清洗——钢化——清洗——丝印——清洗——镀膜——清洗——包装等工序,这些工序通常都需要切削液,磨边油,研磨液,抛光粉等来辅助作业。

 

目前光学玻璃加工清洗对象和脏污一般是:

1CNC加工后清洗的脏污,主要是切削液和指纹;

2、在抛光、扫光后主要脏污为抛光粉和指纹;

3、钢化后清洗主要脏污为硝酸钾和灰尘;

4、丝印成品后的清洗指纹、灰尘等、吸盘印、白点、油墨点等,且要求对镜面银、油墨无损伤。

 

宏达威光学玻璃清洗剂专门针对以上工序而研发,由多种优质有机物,表面活性剂,无机盐等经科学的工艺配制而成;宏达威光学玻璃清洗剂对玻璃表面的脏污,油污、蜡、碳黑、蜜腊等残留物及氧化铈、环氧树脂等均有很强的去除力,无残留易漂洗让光学玻璃镜片更加透明,光亮如新。


宏达威光学玻璃清洗剂HDW-800系列,垂询电话0755-88311888.

11-正产品图

本文标签:光学玻璃 清洗 清洗剂
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