硅片是由单晶硅或者多晶硅经过钢线切割或者金刚线切割而来，切割后的硅片需要经过清洗剂的清洗，才能进行下一步操作，硅片的清洗效果直接影响最终的光电转换率，所以选择性能优异的清洗剂尤为重要。

1.硅片清洗剂分析精度可以达到什么程度?

硅片清洗剂领域，我分析中心积累了非常丰富的剖析和开发经验;整个项目可以达到九成以上的相似度;常见成分在1%以上可以准确定性定量。目前我研发针对客户要求可对不同脱脂剂进行开发，满足不同客户要求。

2.怎么去分析硅片清洗剂配方，分析用到哪些仪器设备呢?

我分析中心拿到样品后工程师首先进行评估(物理，化学方法)，评估后制定最佳分析流程进行分离测试，在分析的过程中一般常用的大型仪器设备有：核磁(NMR),气质联用(GCMS),质谱(MS),红外(FTIR),X荧光分析仪(XRF)，液质联用(LCMS)，热重分析(TGA)等。

3.硅片清洗后出现白斑片是什么原因?

硅片清洗后出现白斑片是什么原因?出现这种情况可能的原因有线切割之后到清洗的时间过长，脱胶温度过高 ，配方碱度过高。

4.硅片清洗后洗不干净，有黑斑是什么原因?

可能原因有砂浆的残留过多，切割液使用次数太多，建议及时更换切割液。

宏达威的HDW-950清洗剂适用于太阳能硅片上的切割液、油污、指纹、灰尘等的清洗，具有清洗彻底，易漂洗，无残留等特点，适用于单晶硅，多晶硅的清洗。