1.产品用途:HDW-930适用于半导体晶片华佗后的清洗,对晶片上的残留胶、化陀液等有很好的清洗效果,对晶片安全无腐蚀。2.适用范围:适用于半导体晶片。
01较强的渗透乳化性,去污速度快,清洗能力强,洗净率高;
02适用浓度低,对油污容纳量高,使用寿命长;
03配合超声波洗涤效果更佳;
04高效环保水基清洗剂,不含ODS、卤代烃类等有害物质,操作安全,对环境友好;
05符合国家RoSH检验标准。
·产品规格:25 Kg/桶;
·本品存放在阴凉干燥的地方;
·作业时,请戴好防护手套;
·本品无刺激性,若溅到衣物、机器、地板上,应立即擦干用水冲洗。