HDW-930清洗剂定制-宏达威

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: HDW-930清洗剂

1.产品用途：HDW-930适用于半导体晶片华佗后的清洗，对晶片上的残留胶、化陀液等有很好的清洗效果，对晶片安全无腐蚀。
2.适用范围：适用于半导体晶片。

01较强的渗透乳化性，去污速度快，清洗能力强，洗净率高；

02适用浓度低，对油污容纳量高，使用寿命长；

03配合超声波洗涤效果更佳；

04高效环保水基清洗剂，不含ODS、卤代烃类等有害物质，操作安全，对环境友好；

05符合国家RoSH检验标准。

浓度	温度	时间
8-12%	75-85℃	5-10min

先将纯水注入到洁净的清洗槽2/3处，加热至50℃左右，加入HDW-930清洗剂，再升温至工作温度即可。

参考工艺：

HDW-930超声洗涤----喷淋----漂洗-----HDW-930超声洗涤----喷淋漂洗3----热水洗----风切----烘干

产品规格：25Kg/桶；

本品存放在阴凉干燥的地方；

作业时，请戴好防护手套；

本品无刺激性，若溅到衣物、机器、地板上，应立即擦干用水冲洗。

工业清洗剂